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產品簡介
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系統主要功能指標：
寬光譜測量范圍：UV-VIS-NIR, 200-900nm;
高系統時間分辨率： <=5ps
壽命衰減測量時間范圍：<=50ps—100us
高系統光譜分辨率： <0.1nm
寬單次成譜范圍： >=200nm
靜態（穩態）光譜采集，
瞬態時間分辨光譜圖像及熒光壽命曲線
系統集成整體控制及數據處理軟件
超快時間分辨光譜系統 是由光譜儀、超快探測器、耦合光路、系統控制及數據處理軟件組成。光譜儀對入射光信號進行分光，分光光譜耦合到超快探測器,入射光由透鏡聚焦在陰極上，激發出的光電子通過陽極加速，入射到偏轉場中的電極間，此時電壓加在偏轉電極上，光電子被電場偏轉，激射熒光屏，以光信號的形式成像在熒光屏上。轉換后的光信號還可以再通過圖像增強器進行能量放大，并在圖像增強器的熒光屏上成像。最后通過制冷相機采集熒光屏上信號。因為電子的偏轉與其承受的偏轉電場成正比，因此，通過電極的時間差就可以作為熒光屏上條紋成像的位置差被記錄下來，也就是將入射光的時間軸轉換成了熒光屏空間軸。系統控制軟件用于整個系統的參數設置、功能切換、數據采集等，圖像工作站用于采集數據處理分析
主要應用方向
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光譜儀建議選型參數列表
光譜儀型號 | Omni-λ2002i | Omni-λ3004i | Omni-λ5004i | Omni-λ7504i | |||
光譜儀焦距 | 200mm | 320mm | 500mm | 750mm | |||
相對孔徑 | F/3.5 | F/4.2 | F/6.5 | F/9.7 | |||
光譜分辨率（1200l/mm） | 0.3nm | 0.1nm | 0.08nm | 0.05nm | |||
波長準確度 | +/-0.2nm | +/-0.2nm | +/-0.15nm | +/-0.1nm | |||
倒線色散(1200l/mm) | 3.6nm/mm | 2.3nm/mm | 1.7nm/mm | 1.1nm/mm | |||
光柵尺寸 | 50*50mm | 68*68mm | 68*68mm | 68*68mm | |||
光柵臺 | 雙光柵 | 三光柵 | 三光柵 | 三光柵 | |||
與探測器耦合 | 中繼光路1:1耦合，配合二維焦面精密調節一體化底板 | ||||||
系統光譜分辨率(1200l/mm) | <=0.3nm | <=0.2nm | <=0.1nm | <0.08nm | |||
一次攝譜范圍(150 l/mm) | >230nm | >150nm | >90nm | >60nm | |||
光譜儀入口選項 | 光纖及光纖接口，標準熒光樣品室，鏡頭收集耦合，共聚焦顯微收集耦合等 | ||||||
超快時間分辨光譜測試系統既可以與飛秒超快光源配合完成獨立的光譜測試，也可以與卓立漢光的其他系統比如 TCSPC, RTS&FLIM顯微熒光壽命成像系統,TAM900寬場瞬態吸收成像系統，以及低溫制冷室，飛秒&皮秒激光器等配合完成更為復雜全面的超快測試。
Zolix其他可配合超快測量系統
lRTS2& FLIM 顯微熒光壽命成像系統
光譜掃描范圍：200-900nm(可拓展)
最小時間分辨率：16ps
熒光壽命測量范圍：500ps-1μs@ 皮秒脈沖激光器
激發源： 375nm- 670nm 皮秒脈沖激光器可選，或使用飛秒光源
科研級正置顯微鏡及電動位移臺
空間分辨率：≤1μm@100X 物鏡@405nm 皮秒脈沖激光器
OmniFluo-FM 熒光壽命成像專用軟件
Omni-TAM900 寬場飛秒瞬態吸收成像系統
測量模式：
1：點泵浦-寬場探測：測量載流子遷移和熱導率等；
2：寬場泵浦-寬場探測：測量載流子分布和物理態的空間異質性等。
探測器：sCMOS相機
成像空間分辨率：優于500nm
載流子遷移定位精度 優于30nm
時間延時范圍：0-4ns或0-8ns可選
搭配倒置顯微鏡，可兼容低溫，探針臺，電學調控等模塊
<20ps 的鈣鈦礦薄膜ASE 發光壽命曲線
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