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對位平臺XYR系列是卓立漢光為解決工業(yè)生產(chǎn)線上，對工件進行高精度、高重復使用頻率對位、邦定、貼合等使用要求而開發(fā)的三軸并聯(lián)式對位機構。每臺平臺，由上臺面、下底面及中間的 4 套模組構成，每套模組均采用交叉滾柱導軌和交叉滾子軸承導向，帶驅(qū)動模組（3 套）采用小導程滾珠絲杠驅(qū)動，標配步進電機，也可換裝五相步進電機或伺服電機。

XY 系列產(chǎn)品是卓立漢光為解決工業(yè)生產(chǎn)線上，對工件進行高精度、高重復使用頻率掃描等使用要求而開發(fā)的二維整體式對位平臺，XY 系列已全面取代老款 TSAW 及 MScope 系列產(chǎn)品。XY整體二維對位平臺采用交叉滾柱導軌，滾珠絲杠傳動，整體式設計，可有效提高正交度和運動精度。中心設計有通光孔，通光孔也可另配玻璃或鋁合金蓋板，實現(xiàn)透射、反射式的掃描或?qū)ξ恍枨蟆?/p>

OTNS系列隔振光學平臺儀器支架是隔振光學平臺應用的延伸，獨立放置 , 可放置示波器、各種控制器、適配器、電腦等，不僅可以充分利用隔振光學平臺上方的空間，且操作各類儀器時不影響平臺的的穩(wěn)定性。

DVIO-MO系列主動隔振光學平臺主動隔振支撐部分主要包括了被動隔振機構和主動隔振器 DVIA-M，每個支撐里面一般會有 4 個 DVIA-M 系列主動隔振器和一臺主控箱。主動隔振器包含了采集信號的傳感器和消除振動的驅(qū)動器，主要消除 0.5-10Hz 的外部振動 , 被動隔振系統(tǒng)部分同時承擔著支撐負載和隔絕高頻率振動的作用。

ZDR系列氣浮隔震平臺臺面整體為三層夾心式蜂窩結(jié)構，上臺面材料為 SUS430（1Cr17）高導磁不銹鋼，具有很好的耐腐蝕性能。

ZDP系列半膜片式氣浮隔振光學平臺剛性高、穩(wěn)定性好、隔振效果好，適合于科研級精密隔振要求的領域使用。